Jellemzők
Kis energiájú ionszórás (LEIS), szögfelbontásos XPS, kiválasztott területű XPS, maratás, mélység profil. Katalízis kamra (HPC) a minták előkezeléséhez és reakcióihoz. 

Alkalmazások
A készülék alkalmas szilárd felületek vizsgálatára a katalízis kamrában végzett kezelések minden fázisában. A minták kezelése áramló közegben, magas hőfokon atmoszférikus nyomáson történik. Evakuálás és az analizáló kamrába való áthelyezés után ultravákuum UHV körülmények között történik a spektrumfelvétel. Minden fajta szilárd, nem illékony és röntgen-álló minta vizsgálható. A spektrumok a minta felületének legfelső néhány (LEIS-sel a legfelső) atomi vastagságú rétegéről adnak minőségi és mennyiségi információt. Egyedülálló módon a felületet alkotó elemek oxidációs állapota is meghatározható.